glō bestellt G5+ MOCVD-Anlage für Micro-LED-Produktion

AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein weltweit führender Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gibt heute bekannt, dass es einen Auftrag des schwedisch-amerikanischen Unternehmen glō-USA, Inc. über eine Anlage des Typs AIX G5+ erhalten hat. Das Unternehmen konzentriert sich auf die Vermarktung von Micro-LED-Produkten, die auf ihrer eigenen fehlerfreien Galliumnitrid (GaN) Nanodraht-Technologie basieren. Solche 3D-Strukturen ermöglichen das Wachstum von Micro-LEDs unter Beibehaltung der Zuverlässigkeit eines anorganischen Materialsystems. AIXTRONs AIX G5+ Planetary Reactor^® System wurde im Rahmen der strategischen Expansion von glō ausgewählt und wird in einer Konfiguration von 8x150 mm im Lauf des vierten Quartals 2017 geliefert.

Alle führenden Display-Hersteller haben die Micro-LED-Technologie als Herausforderer der aktuell genutzten Display-Technologie für die nächste Generation von Konsumgütern auf ihre Agenda gesetzt. Micro-LED-Displays bestehen aus einer großen Anzahl von mikrometergroßen LEDs, die individuelle Sub-Pixel-Elemente bilden. Im Vergleich zu den derzeit verfügbaren LCD- und OLED-Technologien bieten Micro-LED-Displays einen äußerst niedrigen Energieverbrauch während sie gleichzeitig höchste Pixel-Dichte, Kontrastverhältnis und Helligkeit aufweisen und daher neue Horizonte für mobile Konsumgüter und Premium TV-Displays öffnen.

Fariba Danesh, CEO von glō, sagt: „Auf der Basis von mehr als zehn Jahren Erfahrung sowie dem Know-how im Bereich der Nanotechnologie, haben wir eine wegweisende dreifarbige Micro-LED-Displaytechnologie entwickelt. Unsere drei Farbpixel werden ausschließlich mittels GaN-Halbleitermaterialien hergestellt. Wir konzentrieren uns nun darauf, diese spannende Technologie in die Massenproduktion zu überführen. Über die Epitaxie-Struktur hinaus, verlangt die Herstellung von Micro-LEDs skalierbare Prozesse, straffe Heterogenität und Partikel-Kontrolle der Epitaxie-Wafer, um eine größtmögliche Ausbeute und damit die kosteneffiziente Weitergabe an unsere Partner im Bereich Micro-LEDs zu ermöglichen. AIXTRONs AIX G5+ MOCVD-Anlage erfüllt aufgrund ihres Batch Reactor-Konzepts alle diese Anforderungen unter gleichzeitiger Einhaltung eines wirtschaftlichen Produktionsbetriebs. Daher freuen wir uns bei diesen vielversprechenden Anwendungen auf eine enge Zusammenarbeit mit AIXTRON.“

„Wir freuen uns über das Vertrauen, das uns glō entgegen bringt und sind zuversichtlich, dass unsere Technologie die Bedürfnisse des Unternehmens bestmöglich unterstützt. Unsere AIX G5+ genießt einen hervorragenden Ruf als Referenzanlage für Anwendungen im Bereich Micro-LED, da sie die einzige Technologie auf dem Markt ist, die sowohl eine on-wafer Homogenitätskontrolle als auch niedrige Partikelniveaus und einzigartige erweiterte Funktionen wie die Wafer-Level-Temperaturkontrolle mittels Auto-Feed Forward (AFF) liefert. Damit unterstützt unsere Anlage die hohen Anforderungen in der Herstellung von Micro-LEDs“, sagt Dr. Bernd Schulte, Vorstand der AIXTRON SE.

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Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®