INNOVATION

AIXTRON TECHNOLOGIEN

Mit unseren führenden Technologien zur Materialbeschichtung forcieren wir die strategischen Anwendungsmärkte Verbindungshalbleiter und Nanomaterialien. Für unsere Kunden bedeutet dies eine umfangreiche Auswahl an Technologien zur Herstellung unterschiedlicher Schichtstrukturen für verschiedenste Bauelementtypen.

Verbindungshalbleiter
Verbindungshalbleiter

MOCVD

Wir sind weltweit führend in der Herstellung von MOCVD-Anlagen zur Materialbeschichtung.

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VERBINDUNGSHALBLEITER
VERBINDUNGSHALBLEITER

Planeten-prinzip (MOCVD)

Der Planetary Reactor basiert auf dem Prinzip eines horizontalen Laminarflussreaktors und gewährleistet schärfste Übergänge...

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VERBINDUNGSHALBLEITER
VERBINDUNGSHALBLEITER

SHOWERHEAD-PRINZIP (MOCVD)

Das CCS-Konzept hat eine maximale Kapazität von 69x2 bzw 19x4-Zoll Wafern.

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2D-nanotechnologie
2D-nanotechnologie

SiC Warmwand-Planeten-Prinzip (SIC-CVD)

Unübertroffenen Produktionskapazitäten und effektive Nutzung der Ausgangsmaterialien.

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2D-NANOTECHNOLOGIE
2D-NANOTECHNOLOGIE

Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE)CVD

PECVD zur Abscheidung flexibler Sperrfilme für die Verkapselung von Dünnschichten.

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