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26. September 2013 | Pressemeldungen
Die Universität Massachusetts (UMass) Lowell, USA, nutzt eine neue BM-Depositionsanlage von AIXTRON für die Verarbeitung von 4-Zoll-Substraten. Die Anlage wurde an das erst kürzlich fertig gestellte ETIC-Zentrum (Emerging Technologies and Innovation Center) der Universität ausgeliefert. ETIC ist mit modernster Technik ausgestattet und wird von Wissenschaftlern, Startups und am Campus angesiedelten Firmen gemeinschaftlich genutzt.
Ziel der Wissenschaftler sei es, Kohlenstoff-Nanoröhren (CNT) und Graphen in eine Vielzahl elektronischer Anwendungen zu integrieren – von Hochfrequenztransistoren über Energiespeicher bis hin zur flexiblen Elektronik, so Thomas Ferraguto, Direktor der Abteilung Nanofabrication Cleanroom Operations. „Unser Team ist sehr daran interessiert, Erkenntnisse über die Eigenschaften von Graphen und Kohlenstoffnanoröhren zusammenzutragen. Die AIXTRON Anlage bietet uns die nötige Flexibilität, um diese Materialien zuverlässig abzuscheiden." Ein weiterer Vorteil: Die BM-Anlage ist als Multi-User-Anwendung konzipiert, so können verschiedene Anwender gleichzeitig an der Anlage arbeiten und Materialverbräuche und Betriebskosten den jeweiligen Endanwendern aus Forschung oder Industrie direkt zugeordnet werden.
Die einzigartigen Eigenschaften von Graphen und CNT für kommerzielle Anwendungen nutzbar zu machen bleibt auch künftig die zentrale Herausforderung für Wissenschaftler und Hersteller. Aufgrund der hohen Flexibilität der BM-Plattform können sie sowohl Graphen als auch CNT mit präziser Kontrolle der entscheidenden Oberflächendimensionen abscheiden und damit Durchsatz, Leistungsfähigkeit, Ausbeute und Qualität ihrer Materialien steigern. Weitere Vorzüge der Anlage sind automatische Prozesskontrolle, leichte Rezeptpflege, eine integrierte Prozesskamera sowie Fernbedienung via TCP/IP Networking. Weltweit nutzen Wissenschaftler die AIXTRON Anlage für neue Möglichkeiten in der Forschung und stellen ihre Ergebnisse interessierten Forschergruppen, Entwicklungsingenieuren sowie der Industrie zur Verfügung.
Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications
Alan Tai
Taiwan/Singapore
Christof Sommerhalter
USA
Christian Geng
Europe
Hisatoshi Hagiwara
Japan
Nam Kyu Lee
South Korea
Wei (William) Song
China
AIXTRON SE (Headquarters)
AIXTRON 24/7 Technical Support Line
AIXTRON Europe
AIXTRON Ltd (UK)
AIXTRON K.K. (Japan)
AIXTRON Korea Co., Ltd.
AIXTRON Taiwan Co., Ltd. (Main Office)
AIXTRON Inc. (USA)
Laura Preinich
Recruiter
Tom Lankes
Talent Acquisition Expert - Ausbildungsleitung
Christoph Pütz
Senior Manager ESG & Sustainability
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications
Ralf Penner
Senior IR Manager
Prof. Dr. Michael Heuken
Vice President Advanced Technologies
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications