HLJ Technology erweitert VCSEL-Produktion mit modernster MOCVD-Technologie von AIXTRON

AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein weltweit führender Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gibt bekannt, dass der taiwanesische VCSEL (Vertical-Cavity Surface Emitting Laser; dt. oberflächenemittierende Laser) Epitaxie- und Chiphersteller HLJ Technology Co., Ltd mehrere MOCVD-Anlagen des Typs AIX 2800G4-TM bestellt hat. Damit soll sowohl die Wafer-Kapazität ausgebaut als auch die Produktionslinie für Epitaxie-Wafer zur VCSEL-Großserienfertigung von 4- auf 6-Zoll erhöht werden. Die vollautomatischen Planetary Reactor®-Anlagen von AIXTRON werden ab Q4/2018 in einer 8x6-Zoll-Konfiguration geliefert.

Die AIX 2800G4-TM gilt aufgrund der einzigartigen Leistungsfähigkeit des Planetary Reactor®-Konzepts hinsichtlich der Kontrolle von Dicke und Gleichmäßigkeit der Wellenlänge der Epitaxieschichten als Industriestandard für High-End-Laseranwendungen wie VCSEL, die vor allem im Bereich der 3D-Sensorik zum Einsatz kommen. Damit liefert die Anlage in der Produktion eine maximale Ausbeute hochwertiger Produkte.

Dr. Larry Lai, General Manager von HLJ, sagt: „Um der schnell wachsenden Marktnachfrage für VCSEL sowohl auf Epi-Wafer- als auch auf Chip-Ebene gerecht zu werden, haben wir uns entschlossen, die Produktion auf 6-Zoll-Epi-Wafer auszuweiten. Dazu werden ab Q4/2018 zwei neu bestellte AIXTRON MOCVD-Anlagen bei HLJ eintreffen. In Q2/2019 wird die erste vollständige Produktionslinie für die VCSEL-Großserienproduktion betriebsbereit sein.“

„Wir freuen uns sehr, dass sich unser Neukunde HLJ Technology für unsere AIX 2800G4-TM-Anlage entschieden hat. Sie bietet die besten Herstellungsprozesse für die Großserienfertigung von VCSEL-Wafern und -Chips. Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit HLJ und werden das Unternehmen bei der Anpassung seiner Produktionsprozesse an unsere Anlagentechnologie bestmöglich unterstützen“, so Dr. Bernd Schulte, Vorstand der AIXTRON SE.

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