28. August 2014 | Pressemeldungen

MELCO setzt in der Produktion von Leistungsverstärkern auf MOCVD-Anlage von AIXTRON

Die japanische Mitsubishi Electric Corporation (MELCO) hat die Produktion mit einem AIX 2800G4 HT Planetenreaktor von AIXTRON aufgenommen. Die für 11x4-Zoll Wafer konfigurierte Anlage wird hauptsächlich in der Entwicklung und Massenproduktion von hocheffizienten Galliumnitrid-auf-Silizium-Leistungsverstärkern für Mobilfunk-Basisstationen eingesetzt.

MELCO’s Entscheidung, eine G4-Anlage für die Herstellung hocheffizienter Leistungsverstärker zu erwerben, basiert auf der positiven Erfahrung mit AIXTRON’s vorheriger MOCVD-Anlagengeneration G3. Die Planetenanlage ist äußerst flexibel und liefert eine maximale Ausbeute, die durch eine höhere Gleichmäßigkeit in der Beschichtung sowie eine minimale Waferkrümmung erreicht wird. Das Unternehmen sieht der Nutzung der Anlage in der Massenfertigung daher erwartungsvoll entgegen.

Dr. Frank Wischmeyer, Vice President Power Electronics bei AIXTRON, fügt hinzu: „Die Galliumnitrid-auf-Silizium-Technologie entwickelt sich zur Technologie der Wahl für die Produktion von Leistungselektronik auf 4“, 6“ und 200 mm Silizium, da sie sowohl hohe Leistungsfähigkeit als auch kostengünstige Herstellungsprozesse erlaubt. Wir freuen uns sehr, MELCO bei der Herstellung von monolithischen Leistungsverstärkern und diskreten HEMTs (High Electron Mobility Transistors) zu unterstützen.“

Bauteile auf Basis von Galliumnitrid ermöglichen eine höhere Leistungsdichte auf höheren Frequenzen, zum Beispiel für Anwendungen in der Satellitenkommunikation, der Radartechnik oder in Basisstationen von Mobilfunknetzen.

Die Mitsubishi Electric Corporation (MELCO) ist ein international tätiger japanischer Elektronik- und Elektrogerätehersteller mit Hauptsitz in Tokio. Das 1921 gegründete Unternehmen ist eine der wichtigsten Tochtergesellschaften im Mitsubishi-Konzern und erzielte 2013 einen Umsatz von 37,94 Mrd. USD.

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®

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