21. Juni 2011 | Verbindungshalbleiter

AquaLite steigert Durchsatz mit AIXTRON CRIUS II-Anlage

Der chinesische LED Power Chip Experte und AIXTRON Kunde AquaLite Co. Ltd. hat im ersten Quartal 2011 eine 55x2-Zoll CRIUS II MOCVD*-Anlage bestellt. Damit sollen sehr helle LEDs und Hochvolt-LEDs (HV LEDs) hergestellt werden.

Die Anlage wird im zweiten Quartal 2011 von einem AIXTRON Service Team in AquaLites Produktionsstätte in China installiert und in Betrieb genommen. Dort fertigt der Hersteller auch seine Hochleistungs-LEDs.

“Als Hauptlieferant Chinas für Hochleistungsbauteile sind wir wie kein anderer Hersteller mit den besonderen Anforderungen bei der Massenfertigung sehr heller LEDs und Hochvolt-LEDs vertraut", erklärt James Dong, CEO von AquaLite. „Daher benötigen wir auch die Anlage mit der besten Wirtschaftlichkeit, Benutzersteuerung und optimalen Betriebszeiten – allesamt Vorzüge der CRIUS II. Die CRIUS-Technologie kennen wir bis ins Detail und wissen daher, wie leicht sich die Prozesse auf die CRIUS II übertragen lassen. Wir gehen also davon aus, dass die neue Anlage nahezu reibungslos in Betrieb genommen und sehr schnell zu einem entscheidenden Erfolgskriterium für uns werden wird."

AIXTRON liefere stets Anlagentechnik mit hervorragenden Spezifikationen und optimalen Service. Aufgrund der gestiegenen Nachfrage nach Hochleistungs-Chips sei die Wahl auf die CRIUS II gefallen, mit der dank der hohen Durchsatzraten die gewünschte Kapazitätssteigerung durchgeführt werden könne. Im November 2010 hatte AquaLite sechs 31x2-Zoll CRIUS Anlagen für die Produktion von Hochleistungs-LED-Chips erworben. Er sei daher überzeugt, so der CEO abschließend, dass sich auch die neue Anlage auszahlen werde.

AquaLite verfügt über modernste Verfahren zur Herstellung epitaktischer Strukturen sowie in der Chipprozesstechnologie. Die LED-Chips des Unternehmens erreichen Leistungen oberhalb der 100 lm/W-Marke** und sind in der Straßenbeleuchtung, in Leuchtstäben, Glühbirnen und in der Hintergrundbeleuchtung weit verbreitet.

* MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung
** lm/W = Lumen pro Watt

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®

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