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18. April 2013 | Pressemeldungen
Langfristige Kooperation in der 6-Zoll GaN-auf-Si-Entwicklung geplant
AIXTRON Close Coupled Showerhead
Aachen, 18. April 2013 – Die Universität Cambridge in Großbritannien hat einen weiteren Close Coupled Showerhead (CCS)-Reaktor von AIXTRON in Betrieb genommen. Die neue Anlage ist für 1x6-Zoll- bzw. 150 mm-Wafer konfiguriert und kann auch 6x2-Zoll-Wafer verarbeiten.
“Wir wollen die Herstellung von Galliumnitrid-LEDs und elektronischen Bauteilen auf 6-Zoll Silizium-Wafern forcieren", so Prof. Sir Colin Humphreys, der die Forschungsabteilung für Materialwissenschaften und Metallurgie in Cambridge leitet und bereits eine CCS 6x2-Zoll Anlage nutzt. „Angesichts der Dynamik im GaN-auf-Silizium-Markt benötigen wir ein weiteres System, das Wafer in dieser Größe verarbeiten kann."
„Wir freuen uns, einen weiteren Forschungsreaktor an die Universität Cambridge zu liefern und die bewährte Zusammenarbeit fortzusetzen“, so Tony Pearce, Geschäftsführer von AIXTRON Ltd. „Die Forschungsgruppe um Professor Humphreys in Cambridge hat weltweit führende GaN-auf-Si-Prozesse entwickelt – wir sind stolz, ihre Arbeit weiter zu unterstützen."
Dr. Frank Schulte, Vice President von AIXTRON Europa, äußerte sich ebenfalls erfreut über die Folgebestellung aus Großbritannien: „Professor Colin Humphreys und sein Team gelten als Pioniere in der GaN-auf-Si-Forschung und werden maßgeblich zum Erfolg der Industrie beitragen. Wir rechnen damit, dass Siliziumsubstrate in der Leistungselektronik und in LED-Anwendungen künftig einen hohen Marktanteil erzielen werden."
Das Forschungszentrum für Galliumnitrid in Cambridge beschäftigt sich mit dem Wachstum von Nitrid-Halbleitern und gilt als eine der wenigen Einrichtungen weltweit, die zugleich über ein großes Spektrum modernster Analysemethoden zur Materialcharakterisierung verfügt, wie Elektronenmikroskopie, Röntgenbeugung, Rasterkraftmikroskopie, Photolumineszenz und Hall-Effekt-Messung. Das Team wird von Spezialisten in der Grundlagenforschung von Nitridhalbleitern ergänzt, die sich eingehend mit den physikalischen Eigenschaften dieses Materials befassen.
Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications
Alan Tai
Taiwan/Singapore
Christof Sommerhalter
USA
Christian Geng
Europe
Hisatoshi Hagiwara
Japan
Nam Kyu Lee
South Korea
Wei (William) Song
China
AIXTRON SE (Headquarters)
AIXTRON 24/7 Technical Support Line
AIXTRON Europe
AIXTRON Ltd (UK)
AIXTRON K.K. (Japan)
AIXTRON Korea Co., Ltd.
AIXTRON Taiwan Co., Ltd. (Main Office)
AIXTRON Inc. (USA)
Laura Preinich
Recruiter
Tom Lankes
Talent Acquisition Expert - Ausbildungsleitung
Christoph Pütz
Senior Manager ESG & Sustainability
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications
Ralf Penner
Senior IR Manager
Prof. Dr. Michael Heuken
Vice President Advanced Technologies
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications