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16. August 2011 | Verbindungshalbleiter
AIXTRON SE liefert die erste der unlängst eingeführten CRIUS II-L MOCVD*-Anlage an Epistar, Taiwans führender Hersteller von optoelektronischen Materialien und Bauteilen. Die CRIUS II-L bietet die weltweit größte MOCVD-Reaktorkapazität von 69x2- bzw. 16x4-Zoll-Wafern an und stellt die neueste Entwicklungsstufe der bewährten CRIUS II-Anlagentechnologie dar.
Das AIXTRON Serviceteam vor Ort wird die neue Anlage in Epistars hochmodernem Reinraumkomplex in Taiwan installieren. Bereits früher in diesem Jahr wurden dort zwei CRIUS II-Anlagen in einer Konfiguration von 55x2-Zoll für die Massenproduktion von ultrahellen (UHB**) blauen LED in Betrieb genommen.
Epistar-Präsident Dr. Ming Jiunn Jou macht deutlich: „Unserer vertrauensvollen Zusammenarbeit mit AIXTRON verdanken wir die besten Produktionsanlagen, die am Markt erhältlich sind. Wir verlassen uns voll und ganz auf Technologie von AIXTRON; in diesem Fall auf die Showerhead-Technologie, ganz egal, ob es sich um die Close Coupled Showerhead (CCS) 19x2-Zoll oder die CRIUS II handelt – die Leistungsfähigkeit der AIXTRON Anlagen ist immer von bester Qualität. Ich bin daher überzeugt, dass die Übertragung unserer Prozesse von der CRIUS und CRIUS II auf die neue CRIUS II-L problemlos vonstatten gehen wird, und wir die gewünschte Homogenität in der Beschichtung schnell erreichen werden. Somit sind wir in der Lage, auch langfristig beachtliche Erfolge in der effizienten Massenproduktion von qualitativ hochwertigen ultrahellen LEDs vorweisen zu können.”
Epistar Corporation ist auf die Entwicklung, Herstellung und den Vertrieb von ultrahellen LED-Produkten spezialisiert. Durch den Einsatz seines patentierten Epitaxieverfahrens mittels MOCVD hat Epistar erfolgreich das gesamte Spektrum an LEDs zur Marktreife gebracht mit allen besonderen Merkmalen wie: kompakte Größe, niedriger Energieverbrauch und lange Lebensdauer. Nach erfolgreicher Qualifizierung der neuen AIXTRON Anlagengeneration AIX G5 HT in 2010 hatte Epistar bereits im April 2011 mehrere AIX G5 HT-Anlagen bestellt.
*MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung
**UHB (Ultra High Brightness) LED = ultrahelle LED
Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications
Alan Tai
Taiwan/Singapore
Christof Sommerhalter
USA
Christian Geng
Europe
Hisatoshi Hagiwara
Japan
Nam Kyu Lee
South Korea
Wei (William) Song
China
AIXTRON SE (Headquarters)
AIXTRON 24/7 Technical Support Line
AIXTRON Europe
AIXTRON Ltd (UK)
AIXTRON K.K. (Japan)
AIXTRON Korea Co., Ltd.
AIXTRON Taiwan Co., Ltd. (Main Office)
AIXTRON Inc. (USA)
Laura Preinich
Recruiter
Tom Lankes
Talent Acquisition Expert - Ausbildungsleitung
Christoph Pütz
Senior Manager ESG & Sustainability
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications
Ralf Penner
Senior IR Manager
Prof. Dr. Michael Heuken
Vice President Advanced Technologies
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications