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25. September 2018 | Pressemeldungen
AIXTRON-Neukunde bestellt erste AIX 2800G4-TM MOCVD-Anlage
AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein weltweit führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gibt bekannt, dass die Sino-Semiconductor Integrated Optoelectronics Cooperation (Sinosemic) eine AIX 2800G4-TM MOCVD-Anlage zur Herstellung von Laserdioden bestellt hat. Der chinesische Chiphersteller ist hauptsächlich auf die Produktion von VCSEL-Bauelementen (Vertical-Cavity Surface Emitting Laser, dt: Oberflächenemittierende Laser) spezialisiert und wird seine erste AIXTRON-Anlage im Laufe des vierten Quartals 2018 erhalten. Das vollautomatische Planetary Reactor®-Fertigungssystem wird in einer 8x6-Zoll-Konfiguration ausgeliefert.
Die AIX 2800G4-TM hat sich als führende Anlage für die Großserienfertigung von VCSEL für 3D-Sensoren und andere Diodenlaser etabliert. Das Planetary Reactor®-Konzept ermöglicht nicht nur eine maximale Ausbeute an Bauelementen auf höchstem Leistungsniveau, sondern auch eine beispiellose Produktivität und Homogenität der Epitaxie-Wafer. Neben der hervorragenden Reproduktionsfähigkeit jedes einzelnen Systems, schätzen die Kunden auch die sehr gute Reproduzierbarkeit zwischen den Systemen. Darüber hinaus bietet die AIX 2800G4-TM eine unvergleichlich hohe Effizienz im Handling der teuren Chemikalien, die für MOCVD-Prozesse bei der Herstellung von Laser-Bauelementen verwendet werden.
Ling Yong Peng, Geschäftsführer der Sino-Semiconductor Integrated Optoelectronics Cooperation, sagt: "In den letzten Jahren hat sich die AIX 2800G4-TM-Plattform für die Herstellung von VCSEL- oder Datacom-Lasern im Markt durchgesetzt. Dies ist das erste Mal, dass wir eine MOCVD-Anlage bei AIXTRON bestellen und wir freuen uns sehr darauf, von der exzellenten Leistungsfähigkeit der AIX 2800G4-TM-Anlage hinsichtlich Wafer-Homogenität und maximaler Flexibilität zu profitieren."
"Wir sind sehr froh, Sino-Semiconductor von der Leistungsfähigkeit unserer AIX 2800G4-TM-Anlage überzeugt zu haben. Es ist die ideale Lösung für die Großserienfertigung im Bereich der photonischen Anwendungen. Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit und werden Sino-Semiconductor bestmöglich bei der Anpassung ihrer Produktionsprozesse an unsere Anlagentechnologie unterstützen", sagt Dr. Bernd Schulte, Vorstand der AIXTRON SE.
Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®
Alan Tai
Taiwan/Singapore
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USA
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Europe
Hisatoshi Hagiwara
Japan
Nam Kyu Lee
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Wei (William) Song
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AIXTRON K.K. (Japan)
AIXTRON Korea Co., Ltd.
AIXTRON Taiwan Co., Ltd. (Main Office)
AIXTRON Inc. (USA)
Laura Preinich
Recruiter
Tom Lankes
Talent Acquisition Expert - Ausbildungsleitung
Christoph Pütz
Senior Manager ESG & Sustainability
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications
Ralf Penner
Senior IR Manager
Prof. Dr. Michael Heuken
Vice President Advanced Technologies
Christian Ludwig
Vice President Investor Relations & Corporate Communications