AIXTRON erneut Marktführer für MOCVD-Anlagen

Herzogenrath, 13. Mai 2019 – AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein weltweit führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gab heute bekannt, dass das Unternehmen nach Angaben des Marktforschungsunternehmens Gartner seine Position als Marktführer für MOCVD-Anlagen im Jahr 2018 behauptet hat. Damit belegte AIXTRON im dritten Jahr in Folge den Spitzenplatz des Rankings. Der Anteil von AIXTRON betrug 46%, gefolgt von Veeco (USA) mit 27% und AMEC (China) mit 23%. Gleichzeitig wuchs der weltweite Markt für MOCVD-Anlagen auf insgesamt 553 Mio. USD (2017: 401 Mio. USD).¹ 

Die MOCVD-Anlagen von AIXTRON haben sich als Referenzanlagen in der Massenfertigung von Lasern für Wachstumsmärkte wie die 3D-Sensorik und die optische Datenkommunikation sowie für Spezial-LEDs, Verbundsolarzellen und Leistungselektronik oder HF-Anwendungen auf Basis von Galliumnitrid (GaN), die insbesondere für den Aufbau des neuen 5G-Kommunikationsnetzes benötigt werden, etabliert.

Dr. Bernd Schulte, Vorstand der AIXTRON SE, sagt: „Wir konzentrieren uns auf unsere Kernkompetenz in der MOCVD-Technologie und haben uns aufgrund der enormen Leistungsfähigkeit unserer Anlagen die Marktführerschaft in einer Reihe von hochattraktiven Wachstumsmärkten erarbeitet. Grundlage unseres fortwährenden Erfolges ist ein über Jahrzehnte gemeinsam mit unseren Kunden entwickeltes Anwendungsverständnis. Es dient der stetigen Weiterentwicklung unseres Portfolios zur bestmöglichen Erfüllung der spezifischen Anforderungen der Endmärkte - höchste Qualität der Epitaxie-Schichten in Kombination mit der effizienten Nutzung der für MOCVD-Prozesse verwendeten Materialien. Somit bieten wir die niedrigsten Betriebskosten in der Großserienproduktion von Verbindungshalbleiterbauelementen.“

¹Gartner: Market Share: Semiconductor Wafer Fab Equipment, Worldwide, 2018 published April, 2019.

Pressemeldung herunterladen

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®